A.檢驗(yàn)滲透檢測(cè)劑系統(tǒng)靈敏度
B.對(duì)用于非標(biāo)準(zhǔn)溫度下的滲透檢測(cè)方法作出鑒定
C.在正常使用狀態(tài)下,檢驗(yàn)滲透檢測(cè)劑能否滿(mǎn)足要求
D.檢驗(yàn)滲透劑滲透速度
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A.鐵素體鋼板的磁導(dǎo)率
B.鐵素體鋼板的電導(dǎo)率
C.磁極間距
D.磁極間隙
A.磁感應(yīng)強(qiáng)度
B.磁場(chǎng)強(qiáng)度
C.真空磁導(dǎo)率
D.相對(duì)磁導(dǎo)率
A.240A/m
B.480A/m
C.0.3mT
D.3G
A.委托方有知情權(quán)、批準(zhǔn)權(quán)和監(jiān)督權(quán)
B.有利于委托方和檢測(cè)方之間財(cái)務(wù)結(jié)算
C.檢測(cè)方不得隨意和擅自帶涂層進(jìn)行磁粉檢測(cè)
D.執(zhí)行該條款要慎重
A.銅
B.低碳鋼
C.奧氏體不銹鋼
D.鎳
A.鋼材化學(xué)成分
B.焊接化學(xué)成分
C.焊接規(guī)范
D.焊接時(shí)工件溫度
A.氣孔
B.夾渣
C.裂紋
D.夾鎢
A.檢測(cè)用儀器和設(shè)備的性能應(yīng)每年進(jìn)行一次檢定(校準(zhǔn)),并有記錄可查
B.黑度計(jì)至少每6個(gè)月校驗(yàn)一次
C.射線(xiàn)設(shè)備更換重要部件應(yīng)及時(shí)對(duì)曝光曲線(xiàn)進(jìn)行校驗(yàn)或重新制作
D.對(duì)使用中的曝光曲線(xiàn),每年至少應(yīng)校驗(yàn)一次
A.公稱(chēng)厚度:受檢工件名義厚度,不考慮材料制造偏差和加工減薄
B.焦距:沿射線(xiàn)束中心測(cè)定的工件受檢部位表面與膠片之間的距離
C.圓形缺陷:長(zhǎng)寬比小于或等于3的氣孔、夾渣和夾鎢等缺陷
D.小徑管:外直徑D0小于或等于100mm的管子
A.雙壁單影透照像質(zhì)計(jì)放置在膠片側(cè)
B.當(dāng)像質(zhì)計(jì)放置在膠片側(cè)時(shí),應(yīng)在像質(zhì)計(jì)上適當(dāng)位置放置鉛字“F”作為標(biāo)記,“F”標(biāo)記影象應(yīng)與像質(zhì)計(jì)的標(biāo)記同時(shí)出現(xiàn)在底片上,且應(yīng)在檢測(cè)報(bào)告中注明
C.單壁透照時(shí)允許像質(zhì)計(jì)放置在膠片側(cè),但必須進(jìn)行對(duì)比試驗(yàn)
D.當(dāng)一張膠片上同時(shí)透照多條焊接接頭時(shí),至少在第一條、中間一條和最后一條焊接接頭處各放一個(gè)置像質(zhì)計(jì)
最新試題
以下哪一種措施不能減小上表面盲區(qū)的影響()
以下耦合劑中,可用于粗糙表面檢測(cè)的是()
原子是元素的具體存在,是體現(xiàn)元素性質(zhì)的最小微粒。
射線(xiàn)照片上細(xì)節(jié)影像的可識(shí)別性主要決定于()
調(diào)節(jié)掃描速度時(shí),應(yīng)使()同時(shí)對(duì)準(zhǔn)相應(yīng)的水平刻度值。
下列對(duì)耦合劑應(yīng)該具有的特點(diǎn)的描述,不正確的一項(xiàng)是()
底片清晰度與增感屏顆粒度的關(guān)系是()
底片清晰度與膠片顆粒度的關(guān)系是()
超聲波斜探頭的K值等于()的正切值。
當(dāng)射線(xiàn)穿透任何一物體時(shí),部分被物體吸收,部分則穿透該物體,還有一部分則被構(gòu)成該物的原子內(nèi)電子向各方面散射,此散射為()