A.溶劑去除型滲透劑用清洗劑去除:先用潔凈不脫毛干布依次檫拭,待多余滲透劑被去除后,再用蘸有清洗劑的干凈不脫毛布或紙檫拭,直至多余滲透劑全部檫凈。注意不得往復檫拭
B.水洗型和后乳化型滲透劑(乳化后)均可用水去除。沖洗時,水射束與被檢面夾角以30°為宜,水溫水壓無嚴格要求;無沖水裝置時,用干凈不脫毛抹布蘸水依次檫洗
C.用熒光滲透劑時,可在熒光燈下邊觀察邊去除
D.清洗工件被檢表面以去除多余滲透劑時,應防止去除過度以致降低檢測質(zhì)量,也要防止去除不足而造成缺陷顯示困難
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A.對焊縫作滲透檢測前,應對焊縫及其兩側(cè)各10㎜的熱影響區(qū)(母材區(qū))范圍,進行表面清洗和干燥
B.被檢工件機加工表面粗糙度Ra≤12.5μm;非機加工表面粗糙度可適當放寬,但不得影響檢測結(jié)果
C.奧氏體鋼或鈦合金制零件經(jīng)機加工的表面,如確有需要,可先進行酸洗或堿洗,再進行滲透檢測
D.可采用的典型清洗劑,有去污劑、有機溶劑、除銹劑及除漆劑等,也可采用除油處理和超聲波清洗法
A.表面粗糙且檢測靈敏度要求低的工件,宜采用水洗型著色法或水洗型熒光法
B.表面光潔且檢測靈敏度要求高的工件,宜采用后乳化型著色法或溶劑去除型著色法
C.大工件的局部檢測,宜采用溶劑去除型著色法或溶劑去除型熒光法
D.現(xiàn)場無水源、無電源的檢測,宜采用溶劑去除型著色法
A.鍋爐
B.氣瓶
C.工業(yè)管道
D.載人航天器
A.鐵素體
B.滲碳體
C.珠光體
D.奧氏體
A.水洗型滲透劑
B.后乳化型滲透劑
C.溶劑去除型滲透劑
D.水基滲透劑
A.熒光磁粉
B.非熒光磁粉
C.濕法用磁粉
D.干法用磁粉
A.顯像劑均是溶液
B.滲透劑是溶液
C.溶劑清洗劑是懸浮液
D.顯像液是乳狀液
A.一條由明亮的點構(gòu)成的波動而間斷的線狀顯示
B.一條短而尖銳的顯示
C.一條彎曲而明亮的線狀顯示
D.一條間斷的線狀顯示,有時模糊而暗淡
A.檢驗滲透檢測劑系統(tǒng)靈敏度
B.對用于非標準溫度下的滲透檢測方法作出鑒定
C.在正常使用狀態(tài)下,檢驗滲透檢測劑能否滿足要求
D.檢驗滲透劑滲透速度
A.鐵素體鋼板的磁導率
B.鐵素體鋼板的電導率
C.磁極間距
D.磁極間隙
最新試題
通常所謂20KV的X射線是指()
對軸類鋼制鍛件,用2.5P14的直探頭,在圓周面上用底波作基準反射而進行靈敏度調(diào)整時,該軸鍛件的直徑至少應大于()
若評片燈亮度增為原來的兩倍,則底片透光度(It/I0)變?yōu)樵瓉淼模ǎ?/p>
一般認為表面波探測的有效深度約為()
調(diào)節(jié)掃描速度時,應使()同時對準相應的水平刻度值。
底片的最佳黑度值與觀片燈的亮度有關(guān),觀片燈亮度改變,最佳黑度值也將改變。
使用變型波檢測的一個優(yōu)點是()
超聲波斜探頭的K值等于()的正切值。
某超聲波探頭,壓電晶片的頻率常數(shù)Nt=1500m/s晶片厚度為0.3mm,則該探頭工作頻率為()
二次波檢測是一種特殊的檢測工藝,以下關(guān)于二次波檢測的做敘述,哪一條是錯誤的()