判斷題負(fù)膠特征為顯影過(guò)程中照射部分溶解,非照射部分保留。
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2.多項(xiàng)選擇題NIKON硅片對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)對(duì)對(duì)準(zhǔn)精度的影響較大,有三種對(duì)位方式()。
A.WGA
B.EGA
C.LSA
D.FIA
3.多項(xiàng)選擇題對(duì)準(zhǔn)與曝光關(guān)鍵工藝參數(shù)()。
A.對(duì)準(zhǔn)OVERLAY
B.分辨率
C.焦深或景深
4.多項(xiàng)選擇題光刻工藝中影響分辨率的因素有()。
A.顯影液
B.曝光方式
C.光刻膠本身
D.光源
5.多項(xiàng)選擇題對(duì)光刻膠的需求包括()。
A.高分辨率
B.高抗蝕性
C.好黏附性
D.更寬的工藝容差
6.多項(xiàng)選擇題光刻膠通常有三種成分:()。
A.感光化合物
B.水
C.溶劑
D.基體材料
7.多項(xiàng)選擇題光刻工藝流程包含以下哪些步驟?()
A.前處理
B.勻膠及后烘
C.曝光
D.顯影及后檢
8.單項(xiàng)選擇題HMDS的作用是使表面(),增加硅片表面與光刻膠的粘附性能。
A.疏水
B.親水
9.單項(xiàng)選擇題一廠PE和MPA的對(duì)套OVERLAY能力為()。
A.±0.5um
B.±1um
C.±1.5um
D.±2um
10.單項(xiàng)選擇題常壓與減壓外延()使用同套光刻版,外延與非外延流程()采用同一套光刻版,后續(xù)光刻層次對(duì)位文件標(biāo)記無(wú)法同時(shí)編兩個(gè)對(duì)位標(biāo)記。()
A.不能,能
B.不能,不能
C.能,不能
D.能,能
最新試題
深孔鉆削在成批生產(chǎn)時(shí),常采用深孔鉆頭在()上進(jìn)行鉆削。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
絲杠()的選擇不是保證絲杠質(zhì)量的關(guān)鍵。
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一般產(chǎn)品的裝配精度指標(biāo)就是增環(huán)。
題型:判斷題
工藝尺寸鏈具有封閉性和關(guān)聯(lián)性,裝配尺寸鏈只有封閉性,沒有關(guān)聯(lián)性。
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對(duì)材料為45鋼的普通絲杠,毛坯的熱處理采用()處理。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
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題型:多項(xiàng)選擇題
車梯形螺紋的切削方法有()。
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()裝配法適用于封閉環(huán)公差要求較嚴(yán)格且組成環(huán)又較多的裝配尺寸鏈,在汽車、拖拉機(jī)、自行車等產(chǎn)品中得到廣泛應(yīng)用。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
小頭孔首道工序?yàn)椋ǎ┘庸ぁ?/p>
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題
為了糾正絲杠加工過(guò)程中的彎曲變形,在絲杠加工工藝過(guò)程中常安排()工藝。
題型:?jiǎn)雾?xiàng)選擇題