A.對(duì)半卡環(huán)
B.正型卡環(huán)
C.環(huán)型卡環(huán)
D.RPI卡環(huán)
E.RPA卡環(huán)
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A.水平方向
B.垂直方向
C.單方向圓形
D.斜向上方
E.水平、垂直兩個(gè)方向
A.靠近導(dǎo)線,并保持向上的趨勢(shì)
B.遠(yuǎn)離導(dǎo)線,并保持向上的趨勢(shì)
C.靠近導(dǎo)線,從而置卡環(huán)體于導(dǎo)線之下
D.遠(yuǎn)離導(dǎo)線,從而置卡環(huán)體于導(dǎo)線之下
E.與基牙有一定的間隙,便于取戴
A.導(dǎo)線
B.牙冠形態(tài)
C.基牙傾斜度
D.患者年齡
E.咬合關(guān)系
基牙常采用哪類卡環(huán)。()
A.單臂卡環(huán)
B.間隙卡環(huán)
C.正形卡環(huán)
D.雙臂卡環(huán)
E.下返卡環(huán)
基牙為三類導(dǎo)線,應(yīng)采用哪類卡環(huán)。()
A.單臂卡環(huán)
B.雙臂卡環(huán)
C.間隙卡環(huán)
D.上返卡環(huán)
E.下返卡環(huán)
為孤立基牙,采用何種卡環(huán)效果最佳。()
A.雙臂卡環(huán)
B.單臂卡環(huán)
C.對(duì)半卡環(huán)
D.正形卡環(huán)
E.下返卡環(huán)
前牙排成淺覆覆蓋關(guān)系是指()。
A.上前牙蓋過下前牙的垂直距離1~4mm,水平距離4mm
B.上前牙蓋過下前牙的垂直距離3~6mm,水平距離6mm
C.上前牙蓋過下前牙的垂直距離2~4mm,水平距離2mm
D.上前牙蓋過下前牙的垂直距離1~2mm,水平距離2mm
E.上前牙蓋過下前牙的垂直距離3~6mm,水平距離3mm
排牙時(shí)常要求平面平分頜間距離,對(duì)平面描述不正確的是()。
A.平面是指上頜中切牙的近中切角與兩側(cè)上頜第二磨牙近舌尖三點(diǎn)所構(gòu)成的假想平面
B.正常情況下,平面前部應(yīng)位于上唇下約2mm
C.平面前部與瞳孔連線平行
D.平面兩側(cè)后部與眶耳平面線平行
E.平面的后端高度與下頜磨牙后墊中1/3的水平位置平齊
A.男性排牙法
B.女性排牙法
C.個(gè)性排牙法
D.中性區(qū)排牙法
E.非解剖式后牙排牙法
A.Ⅰ類錯(cuò)是由于舌功能比頰功能弱,因而牙弓寬度發(fā)育不足,牙列擁擠
B.Ⅱ類錯(cuò)是舌位置靠后的結(jié)果
C.Ⅲ類錯(cuò)是舌位置靠前的結(jié)果
D.唇的封閉是生長(zhǎng)潛力自由發(fā)展的前提,唇功能異常,生長(zhǎng)將受阻
E.以上均正確
最新試題
可引起澆鑄不全的是()。
采用分段灌注模型是為了()。
舌連接桿的作用不包括下列哪一項(xiàng)。()
某患者,6缺失,缺牙間隙小,且齦距離低,選擇的支架類型。()
該患者5應(yīng)設(shè)計(jì)為()。
技師在對(duì)該工作模型確定就位道后,緊接著的工作是()。
鑄造支架中應(yīng)用最廣泛的類型。()
某患者缺失牙較多,力較大,為增強(qiáng)塑料基托強(qiáng)度,多選擇()。
卡環(huán)臂具有的彎曲為()。
某患者對(duì)塑料非常敏感,應(yīng)選擇的鑄造支架類型。()