基牙常采用哪類(lèi)卡環(huán)。()
A.單臂卡環(huán)
B.間隙卡環(huán)
C.正形卡環(huán)
D.雙臂卡環(huán)
E.下返卡環(huán)
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基牙為三類(lèi)導(dǎo)線(xiàn),應(yīng)采用哪類(lèi)卡環(huán)。()
A.單臂卡環(huán)
B.雙臂卡環(huán)
C.間隙卡環(huán)
D.上返卡環(huán)
E.下返卡環(huán)
為孤立基牙,采用何種卡環(huán)效果最佳。()
A.雙臂卡環(huán)
B.單臂卡環(huán)
C.對(duì)半卡環(huán)
D.正形卡環(huán)
E.下返卡環(huán)
前牙排成淺覆覆蓋關(guān)系是指()。
A.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離1~4mm,水平距離4mm
B.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離3~6mm,水平距離6mm
C.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離2~4mm,水平距離2mm
D.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離1~2mm,水平距離2mm
E.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離3~6mm,水平距離3mm
排牙時(shí)常要求平面平分頜間距離,對(duì)平面描述不正確的是()。
A.平面是指上頜中切牙的近中切角與兩側(cè)上頜第二磨牙近舌尖三點(diǎn)所構(gòu)成的假想平面
B.正常情況下,平面前部應(yīng)位于上唇下約2mm
C.平面前部與瞳孔連線(xiàn)平行
D.平面兩側(cè)后部與眶耳平面線(xiàn)平行
E.平面的后端高度與下頜磨牙后墊中1/3的水平位置平齊
A.男性排牙法
B.女性排牙法
C.個(gè)性排牙法
D.中性區(qū)排牙法
E.非解剖式后牙排牙法
A.Ⅰ類(lèi)錯(cuò)是由于舌功能比頰功能弱,因而牙弓寬度發(fā)育不足,牙列擁擠
B.Ⅱ類(lèi)錯(cuò)是舌位置靠后的結(jié)果
C.Ⅲ類(lèi)錯(cuò)是舌位置靠前的結(jié)果
D.唇的封閉是生長(zhǎng)潛力自由發(fā)展的前提,唇功能異常,生長(zhǎng)將受阻
E.以上均正確
A.根據(jù)模型咬合關(guān)系上架,然后在架上制作
B.不必上架制作
C.應(yīng)先采用面弓轉(zhuǎn)移頜關(guān)系,然后上架制作
D.直接在患者口中制作
E.以上均可以
A.近中支托
B.遠(yuǎn)中支托
C.遠(yuǎn)中鄰面板
D.桿式卡環(huán)組
E.A+C+D
A.上頜后牙的鄰接區(qū)需偏舌側(cè)
B.下頜后牙的鄰接區(qū)需偏舌側(cè)
C.舌外展隙小于頰外展隙
D.遠(yuǎn)中鄰接點(diǎn)偏緣處
E.上頜后牙的鄰接區(qū)需偏頰側(cè)
以下有關(guān)支托的描述,錯(cuò)誤的是()。
A.支托寬度是前磨牙頰舌徑的1/2
B.支托寬度是磨牙頰舌徑的1/3
C.支托厚度大于1.3mm
D.支托寬度是前磨牙近遠(yuǎn)中徑的1/2
E.支托呈匙形
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實(shí)現(xiàn)前伸平衡最有效的方法是()。
牙冠舌面的定義是()。
實(shí)現(xiàn)側(cè)運(yùn)動(dòng)的平衡,最有效的方法是()。
可引起砂眼的是()。
基牙為三類(lèi)導(dǎo)線(xiàn),應(yīng)采用哪類(lèi)卡環(huán)。()
磨牙關(guān)系中性,前牙擁擠。()
下牙弓及下頜體處于近中位置,前牙反。()
利用與近基牙相鄰牙的外展隙取得固位力的卡環(huán)形式是()。
該患者5應(yīng)設(shè)計(jì)為()。
某患者對(duì)塑料非常敏感,應(yīng)選擇的鑄造支架類(lèi)型。()