A.調(diào)強照射
B.代替擋鉛塊
C.形成動態(tài)適形野
D.形成不規(guī)則射野
E.改善X射野的半影
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A.0
B.2
C.10
D.50
E.I00
A.氧
B.氨
C.二氧化碳
D.一氧化碳
E.水
A.I1/I0
B.I0/I1
C.Ig(I1/I0)
D.Ig(I0/I1)
E.In(I1/I0)
A.劑量建成區(qū)
B.高劑量坪區(qū)
C.劑量建成區(qū)和高劑量坪區(qū)
D.高劑量坪區(qū)和劑量跌落區(qū)
E.劑量跌落區(qū)和X射線污染區(qū)
A.0.5cm2
B.1.0cm2
C.l.5cm2
D.2.0cm2
E.2.5cm2
A.<2.0%
B.<2.5%
C.<3.0%
D.<4.0%
E.<5.0%
A.<2.0%
B.<2.5%
C.<3.0%
D.<3.5%
E.<5.0%
A.±1%
B.±2%
C.±3%
D.±4%
E.±5%
A.細胞數(shù)
B.增殖速度
C.分化程度
D.pH值
E.射線強度
A.工作負荷
B.使用因子
C.居住因子
D.距離因子
E.本底因子
最新試題
對加速器射野的對稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月兩次。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時,應(yīng)采用雙平面插植。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達到()。
電磁掃描調(diào)強不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時間短的優(yōu)點,而且可實現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強治療。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
對鈷60機射野的對稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
實際患者治療時,無環(huán)重定位技術(shù)的靶點位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
半影為射野邊緣劑量隨離開中心軸距離增加而急劇變化的范圍。
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
人體曲面校正的組織空氣比法或組織最大劑量比方法的修正因子CF的表達式是()。