A.基托的蠟型厚度要比設計形態(tài)厚度略厚
B.應將蠟型與模型之間完全封閉以免裝盒時石膏進入組織面
C.蠟型不必高度光滑,反正開盒后還要打磨拋光
D.蠟型應恢復原有牙齦外觀,并在人工牙根方形成適度的根面形態(tài)
E.蠟型應根據患者的年齡特征正確恢復齦緣的形態(tài)和位置
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A.應與天然牙軸面的倒凹區(qū)輕輕接觸
B.上頜遠中游離者應伸至翼下頜切跡,遠中頰角應覆蓋上頜結節(jié)
C.下頜遠中游離者應覆蓋磨牙后墊1/3~1/2
D.缺牙區(qū)若骨質缺損應當擴大,若有骨突應適當縮小或作緩沖
E.缺牙多應適當大些,反之應小些
A.正確恢復頜間距離
B.正確恢復面下1/3距離
C.正確恢復面下1/3距離和髁突的生理后位
D.正確恢復面部的外形
E.糾正側向咬合和下頜前伸習慣
A.卡環(huán)臂應放在基牙的倒凹區(qū)
B.應避免反復彎曲和扭轉卡環(huán)絲
C.卡環(huán)絲必須與牙面緊密接觸
D.連接體的升部和降部應與牙軸面平行,不能深入基牙的倒凹區(qū)
E.牙間卡環(huán)在牙間溝內部分應與基牙密切貼合
A.下頜骨缺損的始導板
B.上頜骨缺損部的阻塞器義齒
C.唇腭裂序列治療的語音訓練器
D.腭、咽部損部的阻塞器
E.顏面部缺損贗復體
A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.無牙醫(yī)基托設計與傳統(tǒng)總義齒相近
C.可設計暴露牙周的基托
D.根帽和基托要作為一個形態(tài)和功能單位考慮
E.基托與基牙應緊密接觸,使基牙能分散咬合力
A.冠內附著體
B.冠外附著體
C.牙根和牙根內紐扣式附著體
D.固定式附著體
E.根面內附著體
A.垂直距離可恢復偏高,以增強咀嚼肌的肌張力,提高咀嚼效率
B.盡量選擇解剖式或半解剖式人工牙
C.人工后牙要有最廣泛的牙尖接觸
D.人工后牙的尖窩關系要穩(wěn)定
E.人工后牙的位置要恰當,以便于形成正確的磨光面形態(tài),提高義齒的穩(wěn)定性
A.1mm
B.1.5mm
C.2mm
D.2.5mm
E.3mm
A.個別托盤印模法
B.一次印模法
C.二次印模法
D.注射印模法
E.成品托盤印模法
A.牙體預備完后立即比色
B.比色時間不超過5秒
C.患者必須摘掉耀眼的耳環(huán)、眼鏡等物品,擦去濃重的化妝物
D.診室環(huán)境以灰色基調為好
E.比色前清潔牙面
最新試題
全口義齒排牙時前牙覆牙合過深,而Spee曲線曲度過平,則常會導致()。
牙體缺損修復時如原有根尖周病未徹底治療修復后會出現()。
固定橋的穩(wěn)定是指()
牙體缺損修復時,如未恢復軸面的生理突度,會造成()
全口義齒基托邊緣與唇頰溝、舌溝、上頜后堤區(qū)及下頜磨牙后墊處相接觸的區(qū)域屬于()。
全瓷冠一般為()
全口義齒覆蓋的上、下牙槽嵴頂區(qū)屬于()
牙體缺損修復時,牙體制備如切磨過多,接近牙髓修復后可出現()
牙體缺損修復時,如原有根尖周病未徹底治療,修復后會出現()
全口義齒覆蓋的上下牙槽嵴頂區(qū)屬于()。