A.外照射射線源模擬
B.劑量儀響應模擬
C.外照射時體模內(nèi)輻射場模擬及腔內(nèi)放療源周圍輻射場模擬
D.外照射治療計劃應用
E.以上各項
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A.電子束無明顯建成效應
B.電子束的皮膚劑量較高
C.電子束的照射范圍平坦
D.電子束射程較短
E.電子束容易被散射
A.R85
B.E0
C.RP
D.Rq
E.Dm
A.CT/MRI的兩維信息造成定位失真
B.治療位置很難重復
C.劑量計算的精度不夠
D.沒有采用逆向算法,優(yōu)化設計困難
E.以上各項
A.葉片長度
B.葉片寬度
C.葉片高度
D.葉片形狀
E.葉片數(shù)目
A.每分次劑量應小于3Gy
B.每天的最高分次照射總量應小于4.8-5.0Gy
C.每分次的間隔時間應大于4小時
D.兩周內(nèi)給予的總劑量不應超過60Gy
E.以上各項
A.BED=nd*[1-d/(α/β)]
B.BED=nd*[1-d/(β/α)]
C.BED=nd*[1+d/(β/α)]
D.BED=nd*[1+d/(α/β)]
E.BED=nd*[1+(α/β)]
A.細胞增殖
B.細胞修復
C.細胞再氧合
D.細胞再群體化
E.細胞時相的再分布
A.0.5-0.8cm
B.0.5-1.0cm
C.0.8-1.0cm
D.0.5-1.6cm
E.0.8-1.6cm
A.巴黎劑量學原則
B.北京系統(tǒng)
C.紐約系統(tǒng)
D.曼徹斯特劑量學原則
E.斯德哥爾摩系統(tǒng)
A.后裝
B.微機控制
C.計算機計算劑量
D.放射源微型化
E.以上各項
最新試題
LET=()Kev/μm 是高低LET 射線的分界線。
隨能量增大,光電效應發(fā)生的概率迅速減小。
電磁掃描調(diào)強不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時間短的優(yōu)點,而且可實現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強治療。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時,應采用雙平面插植。
對加速器射野的對稱性和平坦度的檢查應每月兩次。
等效射野指的是通過計算換算后的方形野。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變越小。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應因素。