A.放置附著體的基牙冠修復(fù)后,為增加附著體的強度可增寬牙冠的頰舌徑
B.冠內(nèi)附著體與其他固位體可聯(lián)合使用
C.栓道的底部即起到常規(guī)義齒中支托窩的作用
D.如義齒需采用兩個或兩個以上冠內(nèi)附著體,必須使各冠內(nèi)附著體栓道軸壁間有共同就位道
E.冠內(nèi)附著體可用于修復(fù)游離端牙列缺損的患者
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采用冠內(nèi)附著體的基牙牙冠齦徑高度應(yīng)().
A.>3mm
B.>4mm
C.>5mm
D.>6mm
E.>7mm
A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過程中,附著體預(yù)成品,通過包埋、鑄造、研磨等工序,會影響附著體陰性結(jié)構(gòu)和陽性結(jié)構(gòu)的密合度,影響附著體固位
A.0.5mm
B.1mm
C.1.5mm
D.2mm
E.緊密接觸,無間隙
A.2mm
B.3mm
C.4mm
D.5mm
E.6mm
A.3~8mm
B.3~6mm
C.3~5mm
D.3~4mm
E.齊齦或齦上3mm以內(nèi)
A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.以金屬為鄰面邊緣
C.基牙數(shù)目越多,基托暴露可越多
D.暴露牙周基托可消除基托對邊緣齦的機械刺激
E.暴露牙周基托增加了基托周圍的菌斑堆積,需加強清潔
A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.無牙區(qū)基托設(shè)計與傳統(tǒng)總義齒相近
C.可設(shè)計暴露牙周的基托
D.根帽和基托要作為一個形態(tài)和功能單位考慮
E.基托與基牙應(yīng)緊密接觸,使基牙能分散咬合力
A.牙槽嵴頂上方
B.牙槽嵴頂唇側(cè)
C.牙槽嵴頂頰側(cè)
D.不與牙槽嵴頂保持平行關(guān)系
E.緊貼牙槽嵴黏膜
A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸
A.4mm
B.6mm
C.8mm
D.10mm
E.以上均不是
最新試題
上頜頰黏膜出現(xiàn)牽拉疼痛的原因是().
患者修復(fù)前不需考慮().
大連接體可采用().
為增強鑄造金屬全冠的固位力,可采用的措施除外().
下頜牙槽嵴黏膜壓痛的最可能原因是().
為減小游離端牙槽嵴負(fù)擔(dān)的措施中錯誤的是().
基牙預(yù)備時應(yīng)制備出().
如果大連接體采用舌桿,間接固位體最好選().
患牙治療完成前,為防止牙縱裂,常采用的措施保護(hù)患牙,除外的是().
若檢查發(fā)現(xiàn)患牙有輕到中度叩痛,無松動,首先應(yīng)考慮().