單項(xiàng)選擇題放置冠內(nèi)附著體的基牙牙體預(yù)備成箱型,制備的空間應(yīng)比附著體寬()

A.0.4mm
B.0.5mm
C.0.6mm
D.0.7mm
E.0.8mm


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1.單項(xiàng)選擇題以下關(guān)于緩沖型和非緩沖型冠外附著體的描述,錯(cuò)誤的是()

A.非緩沖型冠外附著體常需采用兩個(gè)或多個(gè)基牙形成聯(lián)冠
B.采用緩沖型冠外附著體的義齒戴入后,允許義齒在各方向上有輕微的運(yùn)動(dòng)
C.緩沖型冠外附著體能為義齒提供更好支持作用
D.當(dāng)缺牙區(qū)牙槽嵴條件差時(shí),應(yīng)采用緩沖型冠外附著體
E.緩沖型冠外附著體能減小傳遞到基牙上的側(cè)方扭力

2.單項(xiàng)選擇題以下關(guān)于冠內(nèi)附著體和冠外附著體的描述錯(cuò)誤的是()

A.冠內(nèi)和冠外附著體均可用在固定義齒中調(diào)整就位道方向
B.冠外附著體的應(yīng)用對(duì)基牙大小的要求比冠內(nèi)附著體低
C.冠外附著體的主要作用是固位作用
D.冠內(nèi)附著體可為義齒提供固位、穩(wěn)定、支持作用
E.冠外附著體可用于修復(fù)游離端和非游離端牙列缺損的患者,冠內(nèi)附著體則用于修復(fù)非游離端牙列缺損的患者

3.單項(xiàng)選擇題下列關(guān)于冠內(nèi)附著體固位與穩(wěn)定的敘述,錯(cuò)誤的是()

A.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸面積與固位力成正比
B.附著體陰性結(jié)構(gòu)與陽(yáng)性結(jié)構(gòu)接觸密合程度與固位力成正比
C.義齒的穩(wěn)定性決定于栓體與栓道側(cè)壁間的密合程度
D.自制附著體陰性結(jié)構(gòu)即栓道的軸壁形態(tài)對(duì)固位力有影響
E.精密附著體在義齒制作過程中,附著體預(yù)成品,通過包埋、鑄造、研磨等工序,會(huì)影響附著體陰性結(jié)構(gòu)和陽(yáng)性結(jié)構(gòu)的密合度,影響附著體固位

5.單項(xiàng)選擇題覆蓋義齒短冠基牙牙冠的長(zhǎng)度為齦緣上()

A.3~8mm
B.3~6mm
C.3~5mm
D.3~4mm
E.齊齦或齦上3mm以內(nèi)

6.單項(xiàng)選擇題以下哪項(xiàng)不是設(shè)計(jì)覆蓋義齒暴露牙周基托的設(shè)計(jì)原則()

A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.以金屬為鄰面邊緣
C.基牙數(shù)目越多,基托暴露可越多
D.暴露牙周基托可消除基托對(duì)邊緣齦的機(jī)械刺激
E.暴露牙周基托增加了基托周圍的菌斑堆積,需加強(qiáng)清潔

7.單項(xiàng)選擇題以下有關(guān)覆蓋義齒基托的描述,錯(cuò)誤的是()

A.盡可能少覆蓋齦邊緣
B.無(wú)牙區(qū)基托設(shè)計(jì)與傳統(tǒng)總義齒相近
C.可設(shè)計(jì)暴露牙周的基托
D.根帽和基托要作為一個(gè)形態(tài)和功能單位考慮
E.基托與基牙應(yīng)緊密接觸,使基牙能分散咬合力

8.單項(xiàng)選擇題桿附著體的桿應(yīng)位于()

A.牙槽嵴頂上方
B.牙槽嵴頂唇側(cè)
C.牙槽嵴頂頰側(cè)
D.不與牙槽嵴頂保持平行關(guān)系
E.緊貼牙槽嵴黏膜

9.單項(xiàng)選擇題桿卡式覆蓋義齒底部應(yīng)與黏膜間保持多少以上的間隙,以獲得良好的自潔作用()

A.2mm
B.3mm
C.1.5mm
D.2.5mm
E.桿與黏膜緊密接觸

10.單項(xiàng)選擇題單頜覆蓋義齒頜間距應(yīng)在多少以上()

A.4mm
B.6mm
C.8mm
D.10mm
E.以上均不是