單項(xiàng)選擇題下列哪一部分組織或器官的生長(zhǎng)發(fā)育不屬于Ⅰ型生長(zhǎng)發(fā)育（）

A.肌肉
B.肱骨
C.上頜骨
D.顱底
E.下頜骨


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1.單項(xiàng)選擇題在機(jī)體的生長(zhǎng)發(fā)育過程中，以下描述錯(cuò)誤的是（）

A.機(jī)體的生長(zhǎng)發(fā)育是不均等的過程
B.不同的組織器官依據(jù)自身的規(guī)律生長(zhǎng)發(fā)育
C.機(jī)體生長(zhǎng)，一般而言，在幼兒時(shí)期較旺盛
D.生長(zhǎng)發(fā)育在不同的年齡段，表現(xiàn)出快速生長(zhǎng)或緩慢生長(zhǎng)的情況
E.機(jī)體組織器官生長(zhǎng)曲線圖是一致的

2.單項(xiàng)選擇題有關(guān)發(fā)育的概念，以下描述不正確的是（）

A.發(fā)育涉及細(xì)胞分化的問題
B.發(fā)育涉及組織器官功能的完善程度
C.生長(zhǎng)和發(fā)育是機(jī)體成長(zhǎng)過程中密不可分的兩個(gè)方面
D.正常情況下，組織器官可以先生長(zhǎng)后發(fā)育
E.正常情況下，組織器官在體積和重量增加的同時(shí)，其功能也會(huì)逐步成熟

3.單項(xiàng)選擇題有關(guān)生長(zhǎng)的概念，以下描述中錯(cuò)誤的是（）

A.生長(zhǎng)的過程，伴有組織器官中細(xì)胞的增殖
B.生長(zhǎng)的過程，伴有組織器官中細(xì)胞質(zhì)的增加
C.生長(zhǎng)的過程，伴有組織器官中細(xì)胞的分化
D.正常生長(zhǎng)意味著組織器官體積的增大，但不意味著組織器官功能逐漸成熟
E.生長(zhǎng)和發(fā)育密切相關(guān)，同時(shí)存在

4.單項(xiàng)選擇題以下哪位學(xué)者首先報(bào)道使用了機(jī)械性矯治器（）

A.Angle
B.Ifunter
C.Fauchard
D.Celsus
E.Hippocrates

5.單項(xiàng)選擇題經(jīng)研究，安氏Ⅲ類骨性畸形的咀嚼效能比正常減少（）

A.20%
B.30%
C.60%
D.55%
E.40%

6.單項(xiàng)選擇題舌側(cè)矯治技術(shù)出現(xiàn)于（）

A.1982年
B.1987年
C.1978年
D.1990年
E.1995年

7.單項(xiàng)選擇題以下哪位學(xué)者確立了減數(shù)拔牙的矯治理論（）

A.Angle
B.Begg
C.Andrews
D.Tweed
E.Houpl

8.單項(xiàng)選擇題黏合劑直接黏合托槽開始運(yùn)用于（）

A.20世紀(jì)50年代
B.20世紀(jì)60年代
C.20世紀(jì)70年代
D.20世紀(jì)80年代
E.20世紀(jì)40年代

9.單項(xiàng)選擇題酸蝕對(duì)牙的影響描述準(zhǔn)確的一項(xiàng)是（）

A.酸蝕后的牙面在口腔環(huán)境下能夠再礦化；酸蝕釉質(zhì)對(duì)牙髓不會(huì)造成損害，酸蝕牙本質(zhì)可能激惹牙髓
B.酸蝕后的牙面在口腔環(huán)境下不能再礦化；酸蝕釉質(zhì)對(duì)牙髓不會(huì)造成損害，酸蝕牙本質(zhì)可能激惹牙髓
C.釉質(zhì)酸蝕后的牙面在口腔環(huán)境下不能再礦化；酸蝕釉質(zhì)對(duì)牙髓不會(huì)造成損害，酸蝕牙本質(zhì)也不會(huì)激惹牙髓
D.釉質(zhì)酸蝕后的牙面在口腔環(huán)境下能夠再礦化；酸蝕釉質(zhì)會(huì)對(duì)牙髓造成損害，酸蝕牙本質(zhì)也不會(huì)激惹牙髓
E.釉質(zhì)酸蝕后的牙面在口腔環(huán)境下能夠再礦化；酸蝕釉質(zhì)會(huì)對(duì)牙髓造成損害，酸蝕牙本質(zhì)也可能激惹牙髓

10.單項(xiàng)選擇題關(guān)于牙釉質(zhì)酸蝕的作用完全正確的一項(xiàng)是（）

A.機(jī)械清潔牙面；去除玷污層；增加釉質(zhì)表面的自由能；活化釉質(zhì)表層；增加釉質(zhì)的表面積和粗糙度
B.機(jī)械清潔牙面；保留玷污層；增加釉質(zhì)表面的自由能；活化釉質(zhì)表層；增加釉質(zhì)的表面積和光潔度
C.機(jī)械清潔牙面；保留玷污層；降低釉質(zhì)表面的自由能；活化釉質(zhì)表層；增加釉質(zhì)的表面積和粗糙度
D.機(jī)械清潔牙面；去除玷污層；降低釉質(zhì)表面的自由能；活化釉質(zhì)表層；增加釉質(zhì)的表面積和粗糙度
E.機(jī)械清潔牙面；去除玷污層；增加釉質(zhì)表面的自由能；活化釉質(zhì)表層；降低釉質(zhì)的表面積和光潔度