A.數(shù)目多為并列的兩個，左右各一
B.為口內(nèi)黏液腺導(dǎo)管開口
C.位于軟硬腭連接處的稍后方
D.上半口義齒的后緣止于腭小凹
E.位于腭中縫后部的兩側(cè)

A.面下1／3變短
B.雙頰內(nèi)陷
C.舌體增大
D.黏膜變薄變平和敏感性增強
E.口角上翹

A.咬合面
B.磨光面
C.組織面
D.A+B+C
E.A+B

A.下半口義齒后緣應(yīng)蓋過磨牙后墊1／3～1／2
B.排牙時，下頜第一磨牙的面應(yīng)與磨牙后墊的1／2等高
C.排下頜第二磨牙應(yīng)位于磨牙后墊前緣
D.磨牙后墊與下頜尖牙的近中面形成一個三角形，一般情況下，下頜后牙的頰尖應(yīng)位于此三角形內(nèi)
E.磨牙后墊是邊緣封閉區(qū)

A.舌側(cè)翼緣區(qū)后部
B.頰側(cè)翼緣區(qū)
C.遠(yuǎn)中頰角區(qū)
D.下頜隆突區(qū)
E.下頜舌骨嵴區(qū)

A.缺牙時間久，面頰向內(nèi)凹陷
B.后牙超小
C.上頜結(jié)節(jié)和磨牙后墊部位的基托間隙過小
D.舌體增大
E.垂直距離過低

A.基托與組織面不密合
B.義齒基托過長過厚
C.義齒基托過短過薄
D.系帶區(qū)緩沖過多
E.磨牙后墊區(qū)伸展過長

A.義齒基托過短
B.義基托過長過厚
C.基托與組織面不密合
D.系帶區(qū)緩沖過多
E.磨牙后墊區(qū)伸展過長

A.近中舌尖與平面接觸
B.近中頰尖與平面接觸
C.遠(yuǎn)中舌尖與平面接觸
D.遠(yuǎn)中頰尖與平面接觸
E.以上均不對

A.前脫位
B.后脫位
C.齦方脫位
D.方脫位
E.擺動