下列有關(guān)全口義齒調(diào)的注意事項(xiàng),哪項(xiàng)描述是錯(cuò)誤的()
A.避免調(diào)降低垂直距離
B.避免將人工牙面的牙尖和溝窩形態(tài)磨除
C.調(diào)時(shí)應(yīng)單頜調(diào)磨
D.越調(diào)磨接觸點(diǎn)越多
E.宜使用大磨頭調(diào)
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A.下頜隆突區(qū)
B.下頜頰側(cè)翼緣區(qū)
C.下頜舌側(cè)翼緣區(qū)
D.唇側(cè)邊緣
E.舌系帶
A.橫曲線
B.縱曲線
C.外形高點(diǎn)線
D.導(dǎo)線
E.力線
A.唇頰部軟組織凹陷
B.頰部前突
C.咀嚼無力
D.咀嚼肌酸痛
E.面下部高度不足
A.義齒邊緣過長(zhǎng)
B.組織面有瘤子
C.系帶附麗接近牙槽嵴頂
D.有唇頰側(cè)倒凹
E.腭部硬區(qū)未緩沖
全口義齒填膠后出現(xiàn)前牙開而后牙咬合升高,下列哪項(xiàng)原因除外()
A.蠟型變形
B.填膠時(shí)牙齒移位
C.制作中石膏模型有損壞
D.熱處理后開盒過早,基托變形
E.沒有使用可調(diào)架
以下與前伸平衡有關(guān)的主要因素,哪項(xiàng)不正確()
A.切導(dǎo)斜度
B.補(bǔ)償曲線曲度
C.開口度
D.牙尖斜度
E.髁導(dǎo)斜度
以下哪項(xiàng)不是HannaⅡ型架的特點(diǎn)()
A.髁導(dǎo)盤位于上頜體,切導(dǎo)盤位于下頜體
B.與人體顱骨結(jié)構(gòu)形式相同
C.是一種半可調(diào)的架
D.模擬開閉口時(shí),頜間距離的改變會(huì)導(dǎo)致髁導(dǎo)斜度的改變
E.可以在架上升高或降低頜間距離
完善的全口義齒制作至少需要使用的架為()
A.簡(jiǎn)單架
B.平均值架
C.半可調(diào)架
D.全可調(diào)架
E.簡(jiǎn)單架和全可調(diào)架
A.基托后緣過長(zhǎng)
B.咬合有高點(diǎn)
C.垂直距離過高
D.垂直距離過低
E.前伸不平衡
A.頜骨的解剖形態(tài)
B.口腔黏膜的性質(zhì)
C.唾液的質(zhì)與量
D.舌的大小
E.基托的邊緣范圍
最新試題
基牙在牙弓上的位置,下列情況最有利于義齒固位的是()
咀嚼時(shí)上總義齒易向前翹動(dòng)的原因是()
無牙頜全口義齒修復(fù)印膜的要求,下列哪項(xiàng)不正確()
以下關(guān)于金瓷冠的描述,錯(cuò)誤的是()
牙列缺失時(shí)與牙槽骨吸收速度無關(guān)的是()
頜位關(guān)系的記錄指的是()
與金瓷冠強(qiáng)度無關(guān)的因素是()
雙側(cè)后牙高度磨耗而引起垂直距離降低者,適宜設(shè)計(jì)()
全口義齒人工牙排列時(shí),為什么要有平衡()
下頜牙槽嵴黏膜壓痛的最可能原因是()