A.美觀性
B.瓷粉特性
C.齦端的形式
D.發(fā)音功能
E.力大小
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下面關(guān)于堤的描述,錯(cuò)誤的是()
A.平面的前部與上唇緣平齊
B.平面的前部與瞳孔連線平行
C.側(cè)面觀平面與耳屏鼻翼連線平行
D.堤后端應(yīng)修整成斜坡?tīng)?br />
E.堤唇面要充分襯托出上唇,使上唇豐滿而自然
一般息止間隙的平均值約為()
A.1~2mm
B.2~3mm
C.3~4mm
D.4~5mm
E.5~6mm
A.摩擦力和大氣壓力
B.摩擦力和吸附力
C.吸附力和大氣壓力
D.吸附力和黏著力
E.大氣壓力、吸附力、摩擦力及黏著力
A.前后顫動(dòng)線之間的區(qū)域
B.腭小凹后2mm區(qū)域
C.腭小凹與翼上頒切跡的連線
D.腭小凹到前顫動(dòng)線間的區(qū)域
E.腭小凹至后顫動(dòng)線間的區(qū)域
修復(fù)牙列缺失時(shí),后牙力應(yīng)集中在()
A.第一、二前磨牙區(qū)
B.第二前磨牙及第一磨牙區(qū)
C.第一磨牙和第二磨牙區(qū)
D.第一磨牙區(qū)
E.第二磨牙區(qū)
制作全口義齒時(shí),前牙排成淺覆淺覆蓋的目的是為了()
A.美觀
B.前伸平衡
C.正中平衡
D.側(cè)方平衡
E.發(fā)音清晰
總義齒排牙時(shí),切緣與平面的關(guān)系為()
A.保持接觸
B.離開(kāi)0.5mm
C.離開(kāi)1mm
D.離開(kāi)1.5mm
E.離開(kāi)2mm
RPI采用近中支托的主要目的是()
A.減輕牙槽嵴的負(fù)擔(dān)
B.防止食物嵌塞
C.減輕基牙扭力
D.增強(qiáng)義齒的固位和穩(wěn)定
E.以上均不是
支托凹底與基托長(zhǎng)軸的角度為()
A.0°
B.10°
C.20°
D.30°
E.40°
缺失屬于Kennedy分類的()
A.第一類
B.第二類
C.第三類
D.第四類
E.第五類
最新試題
下頜處于安靜狀態(tài)時(shí),上下牙列之間的距離稱()
具有支持作用的卡環(huán)為()
主要依靠鄰溝固位的修復(fù)體是()
可摘局部義齒中關(guān)于卡環(huán)體與卡環(huán)臂的描述中,正確的是()
下頜全義齒固位的重要部位是()
上下牙列不接觸,下頜處于安靜狀態(tài)時(shí)的位置稱為()
用于近遠(yuǎn)中缺隙均需義齒修復(fù)的、孤立前磨牙或磨牙的卡環(huán)是()
上下牙列最廣泛接觸時(shí),下頜所處的位置為()
切牙嵴頂屬于()
與基牙接觸面積最小的卡環(huán)為()