A.人員應(yīng)具備的資格
B.所需設(shè)備器材
C.檢測工藝
D.缺陷的質(zhì)量分級(jí)
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A.不以退磁
B.能實(shí)現(xiàn)多向磁化
C.探測缺陷深度小
D.有利于磁粉遷移
A.D=2時(shí)的最小梯度
B.D=4時(shí)的最大梯度
C.D=2時(shí)的最大顆粒度
D.D=2時(shí)的最大梯度噪聲比
A.氧化鎂
B.氧化鋅
C.碳酸鈉
D.氧化鈦
A.顆粒度大
B.顆粒度小
C.成像模糊
D.成像清晰
A.檢測速度
B.檢測效率
C.檢測靈敏度
D.檢測準(zhǔn)確度
A.用符號(hào)AC 表示
B.用符號(hào)DC 表示
C.電流表指示平均值
D.電流表指示有效值
A.使始波寬度增大
B.使分辨力變好
C.使靈敏度提高
D.使靈敏度降低
A.脈沖波
B.斷續(xù)波
C.連續(xù)波
D.任何波
A.振幅增加
B.振幅減小
C.能量增加
D.能量減小
A.數(shù)字化
B.自動(dòng)化
C.三維成像
D.相控陣
最新試題
用縱波直探頭確定缺陷平面位置時(shí)需要考慮的問題有（）。
各種電氣設(shè)備都有各自的保護(hù)系統(tǒng)，X 射線機(jī)的保護(hù)系統(tǒng)主要有（）。
表面活性劑分子在水或水溶液表面的吸附近于飽和時(shí)，水或水溶液的極性表面在很大程度上就被表面活性劑分子覆蓋，這時(shí)水或水溶液的（）。
對(duì)底片進(jìn)行評(píng)定時(shí)，首先對(duì)底片進(jìn)行質(zhì)量檢查，不滿足要求的底片不予評(píng)定，質(zhì)量檢查項(xiàng)目有（）。
后乳化型熒光滲透劑本身不含乳化劑，不起乳化作用，需經(jīng)乳化后才能用水清洗，不易被去除，可以用于（）的檢驗(yàn)。
滲透檢測通常在（）前進(jìn)行，表面處理后局部加工時(shí)需再次檢測。
滲透檢測焊縫，對(duì)焊縫及熱影響區(qū)表面進(jìn)行清理，可以采用（）。
筒形或環(huán)形鍛件的鍛造工藝是先鐓粗，后沖孔，再滾壓。因此，缺陷的取向比軸類鍛件和餅類鍛件中的缺陷取向復(fù)雜。所以對(duì)這類鍛件一般采用（）進(jìn)行檢測。
下列關(guān)于顯像劑粉末吸附缺陷中滲透劑的說法正確的有（）。
壓電晶體產(chǎn)生的壓電效應(yīng)主要有（）。