A.對(duì)比試塊
B.標(biāo)準(zhǔn)試塊
C.磁強(qiáng)計(jì)
D.以上都對(duì)
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A.探頭旋轉(zhuǎn),管材直線前進(jìn)
B.探頭靜止,管材螺旋前進(jìn)
C.管材旋轉(zhuǎn),探頭直線移動(dòng)
D.以上均可
A.壓電晶片、電極層
B.吸收塊
C.保護(hù)膜、外殼
D.以上都是
A.垂直線性
B.水平線性
C.脈沖重復(fù)頻率
D.延遲
A.聲壓
B.聲阻抗
C.聲強(qiáng)
D.周期
A.聲強(qiáng)和該點(diǎn)的波長
B.聲強(qiáng)和該點(diǎn)的頻率
C.聲壓和該點(diǎn)的振動(dòng)速度
D.以上都不對(duì)
A、聲壓透射率
B、聲強(qiáng)透射率
C、聲強(qiáng)反射率
D、聲強(qiáng)級(jí)
A.波的干涉
B.波的繞射或衍射
C.波的疊加
D.波的傳播
A.方波
B.電磁波
C.機(jī)械波
D.以上都不對(duì)
A、波陣面
B、壓縮波
C、剪切波
D、應(yīng)力波
A.側(cè)壁干涉
B.波的疊加
C.波的繞射
D.波的衍射
最新試題
產(chǎn)生干涉的兩列相干波,在振動(dòng)時(shí)會(huì)產(chǎn)生不同的波程差,波程差與波長相關(guān)聯(lián),所以不同的波程差會(huì)出現(xiàn)()等現(xiàn)象。
標(biāo)準(zhǔn)試塊具有規(guī)定的(),這是標(biāo)準(zhǔn)試塊的基本要求。
各種電氣設(shè)備都有各自的保護(hù)系統(tǒng),X 射線機(jī)的保護(hù)系統(tǒng)主要有()。
目前主要用的是數(shù)顯式黑度計(jì),主要作用有()。
滲透檢測(cè)通常在()前進(jìn)行,表面處理后局部加工時(shí)需再次檢測(cè)。
用半價(jià)層描述的某種能量的射線是指()。
影響定影的因素主要有()。
滲透檢測(cè)焊縫,對(duì)焊縫及熱影響區(qū)表面進(jìn)行清理,可以采用()。
下列關(guān)于無限大固體介質(zhì)中聲速的說法錯(cuò)誤的有()。
后乳化型熒光滲透劑本身不含乳化劑,不起乳化作用,需經(jīng)乳化后才能用水清洗,不易被去除,可以用于()的檢驗(yàn)。